Warszawa, 19.09.2022 (ISBnews) – XTPL otrzymał warunkowy patent Urzędu Patentów i Znaków Towarowych Stanów Zjednoczonych dotyczący metody formowania linii o szerokości rzędu kilkuset nanometrów z wykorzystaniem opracowanego tuszu zawierającego nanocząstki srebra, podała spółka.
Ostatecznym wymogiem formalnym uzyskania patentu jest wniesienie opłaty za jego wydanie do 14 grudnia 2022 roku, podano w komunikacie.
Procedura zgłoszeniowa dla tego patentu została rozpoczęta 3 sierpnia 2018 roku. Jest to również data, od której obowiązuje ochrona wynalazku. Spółka w swoim portfolio posiada aktualnie 24 zgłoszenia patentowe i łącznie 3 przyznane patenty.
W osobnym komunikacie XTPL podał, że złożył do Urzędu Patentów i Znaków Towarowych Stanów Zjednoczonych wniosek patentowy w zakresie opracowanego przez XTPL rozwiązania technologicznego dotyczącego wydruku zaawansowanych trójwymiarowych połączeń elektronicznych o dużej gęstości upakowania.
XTPL rozwija i komercjalizuje na światowym rynku addytywną technologię umożliwiającą ultraprecyzyjne drukowanie nanomateriałów. Technologia ta ułatwi m.in. produkcję wyświetlaczy nowej generacji, inteligentnego szkła z zaawansowanymi funkcjonalnościami, innowacyjnych zabezpieczeń antypodróbkowych czy paneli fotowoltaicznych o zwiększonej wydajności. Obecnie XTPL komercjalizuje swoją technologię w dwóch pierwszych polach aplikacyjnych: wyświetlaczy oraz smart glass. Akcje spółki zadebiutowały na rynku głównym GPW w lutym 2019 r.
(ISBnews)
