Firma Canon stworzyła przełomową technologię wytwarzania obwodów scalonych w rozdzielczości 5 nm. To litografia nanoimprint. Japończycy właśnie wysłali pierwszą przemysłowa maszynę działająca na tej zasadzie do Texas Institute for Electronics. Będzie tam wykorzystywana w laboratoriach badawczo-rozwojowych.
W październiku 2023 r. Canon poinformował o wprowadzeniu produkcyjnej wersji maszyny do wytwarzania półprzewodników w rozdzielczości 5 nm. Jest ona oparta na przełomowej technologii litografii nanoimprint. W ten sposób Japończycy rezygnują z fali świetlnej jako nośnika roboczego przy wytwarzaniu obwodów. Pierwszą jednostką produkcyjną Canona stosującą nową technologię jest FPA-1200NZ2C, maszyna wielkości sporego pokoju.
Japończycy wysyłają ją do USA, do Texas Institute for Electronics (TIE). Jest to część badawczo-rozwojowa konsorcjum założonego w 2021 roku, zajmującego się tworzeniem nowego typu półprzewodników. Jego udziałowcem jest University of Texas w Austin oraz firmy sektora IT produkujące układy scalone, ale także i organizacje badawcze. Nowa maszyna Canona ma być wykorzystywana do badań nad zaawansowanymi typami półprzewodników oraz granicami ich funkcjonalnej miniaturyzacji i produkcją próbnych partii nowych typów półprzewodników.
TIE otrzymała właśnie 840 mln dolarów od Agencji Zaawansowanych Programów Obronnych DARPA, która chce jak najszybszego wytworzenia nowej generacji wysokowydajnych układów półprzewodnikowych odpornych na zakłócenia i jamming dla armii USA. Finansowanie to ma posłużyć do utworzenia ośrodka badawczo-rozwojowego i prototypowania oraz modernizacji dwóch istniejących zakładów produkcyjnych na uniwersytecie.
System nanoimprint obejmuje przenoszenie wzoru obwodu na powłokę rezystancyjną na powierzchni wafla za pomocą formy, która jest wciskana jak stempel. Teoria jest prosta, ale zapewnienie stabilności i masowej powtarzalności tego rozwiązania zajęło 5 lat. Nawet obecnie technologia ta stanowi wyzwanie. Analityk Gartnera Gaurav Gupta stwierdził wprost, że nadaje się tylko do procesów badawczo-rozwojowych, nie może być użyta w produkcji masowej, zauważając, że istnieje duża różnica pomiędzy produkcją, a wytwarzaniem krótkich serii na potrzeby prototypowania lub badań. Popiera go w tym wielu ekspertów, niektórzy uważają też, że jest to „technologia zamknięta” czyniąca firmy zależnymi od Canona, bowiem formę do litografii nanoimprint można wytworzyć jedynie przy użyciu innego systemu Canona.
Jednak według Canona proces litografii nanoimprint jest tańszy i zużywa mniej energii niż tradycyjne już rozwiązania wykorzystujące fale świetlne jako nośnik roboczy. Nie wymaga źródła światła zaś praca w skrajnym ultrafiolecie (EUV), jaki stosuje w swoich maszynach do fotolitografii wiodąca na rynku holenderska firma ASML, jest dużym wyzwaniem. W efekcie działania nanoimprintu powstają półprzewodniki w technologii równoważnej 5 nm, od dawna poszukiwanej na rynku ze względu na najnowsze pamięci i procesory. Jak stwierdził zastępca dyrektora generalnego ds. produktów optycznych Canon, Kazunori Iwamoto, koncern spodziewa się, że roczna sprzedaż systemów do nanoimprintu wyniesie na początek od 10 do 20 jednostek w ciągu następnych 5 lat.
